光譜分析儀是一種通過(guò)物質(zhì)的光譜來(lái)鑒別及確定物質(zhì)化學(xué)成分和相對(duì)含量的儀器，光譜分析的被測(cè)成分是原子的稱(chēng)為原子光譜,被測(cè)成分是分子的則稱(chēng)為分子光譜。直讀光譜儀在測(cè)試時(shí)如何避免出現(xiàn)誤差呢？

 

1、試樣表面要平整，當(dāng)試樣放在電極架上時(shí)，不能有漏氣現(xiàn)象。如有漏氣，激發(fā)時(shí)聲音不正常。

2、樣品與控制標(biāo)樣的磨紋粗細(xì)要一致，不能有交叉紋，磨樣用力不要過(guò)大，而且用力要均勻，用力過(guò)大，容易造成試樣表面氧化。

3、對(duì)高鎳鉻鋼磨樣時(shí)，要使用新砂輪片磨樣，磨紋操作要求更嚴(yán)格。

4、試樣不能有偏析、裂紋、氣孔等缺陷，試樣要有一定的代表性。

5、電極的頂尖應(yīng)具有一定角度，使光軸不偏離中心，放電間隙應(yīng)保持不變，否則聚焦在分光儀的譜線(xiàn)強(qiáng)度會(huì)改變。多次重復(fù)放電以后，電極會(huì)長(zhǎng)尖，改變了放電間隙。激發(fā)產(chǎn)生的金屬蒸氣也會(huì)污染電極。所以必須激發(fā)一次后就用刷子清理電極。

6、透鏡內(nèi)表面常常受到來(lái)自真空泵油蒸氣的污染，外表面受到分析時(shí)產(chǎn)生金屬蒸氣的附著，使透過(guò)率明顯降低，對(duì)波長(zhǎng)小于200nm的碳、硫、磷譜線(xiàn)的透過(guò)率影響更顯著，所以聚光鏡要進(jìn)行定期清理。

7、真空度不夠高會(huì)降低分析靈敏度， 特別是波長(zhǎng)小于200nm的元素更明顯， 為此要求真空度達(dá)0.05mmHg。

8、出射狹縫的位置變化受溫度的影響最大，因此保持分光室內(nèi)恒溫30℃很重要，還要求室內(nèi)溫度保持一致，使出射狹縫不偏離正常。